蓝宝石基氮化铝

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摇摆曲线半峰宽

XRD(0002)<0.05°

生长面表面粗糙度

Ra<1.2nm(200nm)

大幅提升UVC LED

产品良率和稳定性

提升产品品质

确保产品稳定性

尊龙时凯制备的高质量AlN on Sapphire(蓝宝石基氮化铝),,,XRD(0002)摇摆曲线半峰宽<0.05°,生长面表面粗糙度Ra<1.2nm(氮化铝厚度200nm),,,不仅实现了产品质量的有效管控,,,,大幅度提升产品品质,,,,确保产品稳定性,,,,还大大降低了产品成本和生产周期。。。经客户验证表明,,,尊龙时凯的高品质AlN on Sapphire能够大幅提升UVC LED产品良率和稳定性,,,,助力产品性能提升。。


氮化铝是极具应用潜力的超宽禁带半导体材料,,,,具有很多优良的性质,,,,如其禁带宽度高达6.2eV,,同时具有高击穿场强、、、高饱和电子迁移率、、、、高化学和热稳定性,,,,及高导热、、、抗辐射等优异性能,,因此氮化铝是紫外/深紫外LED、、、、紫外LD最佳衬底材料,,也是高功率、、高频电子器件理想衬底材料。。。。此外,,,氮化铝具有优良的压电性、、、高的声表面波传播速度和较高的机电耦合系数,,是GHz级声表面波器件的优选压电材料。。。。

 

氮化铝的优势

• 直接带隙,,,,禁带宽度6.2eV,,是重要的深紫外和紫外发光材料

• 高击穿电场强度、、、、高热导率、、高绝缘性、、、低介电常数、、低热膨胀系数、、、机械性能好、、耐腐蚀,,常用于高温高频高功率器件

• 非常好的压电性能(特别是沿C轴方向),,,是目前制备各种传感器、、、、驱动器以及滤波器的最佳材料之一

• 与GaN晶体有非常接近的晶格常数和热膨胀系数,,,是异质外延生长GaN基光电器件的优选衬底材料

 

氮化铝具备优异的物理性能:

• 原子间以共价键相结合,,化学稳定性好、、、、熔点高;

• 机械强度高、、、、电绝缘性能佳,,是一种压电和介电材料;

• 晶体薄膜硬度高,,,可作为耐磨涂层;

• 高电阻率、、、、较低的漏电流以及大的击穿场强,,,,使得其成为微电子器件中绝缘埋层材料的最佳选择之一;

• 制备工艺与CMOS兼容,,,可以和其他器件集成到同一芯片上;

• 具备非铁电材料中最好的声波传播速度,,,,且拥有无与伦比的压电响应,,可用于制作高性能的声表器件;

• 是一种宽禁带材料,,,并具有直接带隙,,,,是重要的蓝光和紫外发光材料;

• 沿c轴取向具有非常好的压电性和声表面波高速传播性能,,传声速度快,,,,是所有无机非铁性压电材料中最高的。。。


蓝宝石基氮化铝(AlN on sapphire-002)


基底材料(Substrate):430-440μm Sap(002)(可定制)

尺寸(inch):2、、、、4……可定制

AlN外延厚度(Thickness):5~200nm,可定制

晶面取向(Orientation):c-aixs [0001]

表面粗糙度(nm)(5x5μm):Ra < 1.2nm (200nm)

HRXRD半高宽@(0002):<0.05°

翘曲度(Warp):<30μm

弯曲度(Bow):-10 ~15μm

包装(Packaging):单片/多片晶圆盒


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