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    晶圆级金刚石

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    超高热导率

    1000-2000W/m.K

    独创超精密加工

    表面粗糙度Ra<1nm

    满足晶圆级应用

    可用于键合工艺

    尺寸可定制

    2/3/4inch,10*10mm……

    晶圆级金刚石

    ✔ 热导率高达1000-2000W/m.

    ✔ 晶圆级金刚石生长面表面粗糙度(Ra)<1nm

    ✔ 高品质且成本可控

    ✔ 可定制化

    配图1.png

    金刚石是一种性能优异的宽禁带半导体材料,,优势诸多:

    1.极高的热传导:热导率2200W/m.K ,,,,室温下金刚石具有最高的热导率

    2.极高的介质击穿特性:击穿电场为107V/cm,,是GaAs的50倍,,,GaN的2倍,,SiC的2.5倍

    3.极高的功率容量:容许的功率使用容量是Si材料的2500倍以上;特别适合制作大功率电子器件

    4.低的介电常数:介电常数为5.7,,,约为GaAs的1/2,,,,比InP的一半还小

    5.高饱和载流子速度:饱和载流子速度是GaAs、、、Si或InP的12.7倍,,,在电场强度增加时也维持高速率

    6.高载流子迁移率:电子迁移率为4500c㎡/(V·s),,,高于绝大多数材料,,,,适合制作高频电子器件


    晶圆级金刚石


    厚度(μm):特殊要求根据需求量可定制

    体密度(g/cm3):3.3216

    热传导率(W/(m*K)):TC.1200;  T.C1500;  T.C1800

    热扩散系数(cm^2/s):6.6;8.2;9.9

    热膨胀系数(RT-700℃)(10-6K-1):3.1962

    莫氏硬度:>10

    抗拉强度(Mpa):450~1100

    杨氏模量(GPa):1000~1100

    介电常数(1MHz):5.68

    介电损耗(1MHz):6.2*10-8

    体积电阻(25℃,,,,'Ω·cm):2.95*1013

    绝缘耐压(V/mA):DC 5.5KV/1.5mA

    透光率:40%~65%

    红外吸收系数(cm-1@1.064um):0.3979~0.1871

    精抛-表面粗糙度(正面):Ra<1nm

    表面粗糙度(背面):Ra<200nm

    TTV:<1um(Ø25mm)

    翘曲度:<1um(Ø25mm)

    平面度PV(fringe@633nm):1.5fringe(Ø25mm)



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