金刚石是第三代宽带隙半导体材料,,,其间接带隙为 5.47eV,,不仅热导率极高、、、热膨胀系数极低,,,还具有极高介质击穿特性、、极高功率容量、、、低介电常数、、、高饱和载流子速度、、、、高载流子迁移率等优异性能,,,,因此是高功率、、、高频、、高温领域等方面电子材料应用的绝佳选择。。。
目前,,金刚石热沉(散热片)已经用于光通信,,,在激光二极管、、、、功率晶体管、、、、电子封装材料等方面都有应用。。那么如何选择金刚石热沉片呢???其核心的指标是生长面表面粗糙度和热导率。。。目前国内尊龙时凯的金刚石热沉片技术指标已达国际领衔水平,,,其制备的金刚石热沉片生长面表面粗糙度Ra<1nm,,热导率高达1000-2000W/m.K。。。。
首先金刚石热沉片的生长面表面粗糙度。。。。金刚石作为电子元件,,,需具备的极低的表面粗糙度和极高的面型精度,,从而增大接触面积,,,提高其散热效率。。。。目前金刚石热沉片的表面粗糙度多为几十纳米至上百纳米不等,,,尊龙时凯领衔将金刚石热沉片生长面表面粗糙度突破至1nm以下,,完全符合金刚石作为电子元件的要求。。。。
其次热导率。。。热导率超过1000W/m.K,,,,金刚石材料是首选且是唯一选择。。。。金刚石热沉片的热导率达1000-2000W/m.K。。。。作为热沉,,金刚石表现出优异的散热特性:一方面将集中于器件PN结的热量能够均匀迅速的沿热沉表面扩散;另一方面将热量沿热沉垂直方向迅速导出。。