随着功率芯片(如IGBT,,MOSFET)电流及电压的加大,,,芯片开关产生的大量热流必须以散热片的高热扩散率均温及以流体(空气或液体)带走。。。另一方面,,,,高速运算的芯片(如CPU,GPU)其热流也需先以散热片的热扩散率(声子)及时消除热点,,,,然后以热沉片带走热流来勉强降低芯片温度。。
由于金属(如铜,,,,铝)的热传导率虽高,,,,但因芯片的热膨胀率远低于金属,,,两者中间必须以软质材料(如铟合金,,散热膏)降低应力以提高可靠度,,,,这些TlM(Thermal Interface Material)的热传导率很低,,,,但热容量却很大,,,因此会阻挡芯片热流外传,,,因此热点不能消除。。。。
用低热膨胀速率的陶瓷材料(如六方氮化硼hBN)上面覆铜避免使用造成热阻的TⅠM,,,但这类材料乃热压成型,,内含気孔,,,不仅挡住了热量的传导,,,也使热沉强度大减,,甚至容易掉粉。。。。
高功率元件可银焊在六方氮化硼压块的覆铜上,,,如下图所示。。。。这种设计虽可加降低芯片温度,,,但却同时降低了封装的可靠度,,,并非最佳设计。。。
现在介绍金刚石热沉片的技术,,,首先金刚石的热传导率高于包括银,,铜等的任何金属,,所以热量就会迅速自芯片引出而降低芯片温度。。。其次金刚石不导电却可以声子(晶格振动)散热,,,所以是材料界热扩散率最高的。。。金刚石热沉片不能容忍温度梯度,,,,会即时均温(消除温度差异)。。换言之,,芯片焊在金刚石热沉片后其内的热点难以存在。。。。芯片的性能其实不是由平均温度决定的,,而是由最高温处的极小热点所限制。。
热点面积可以只有数十个原子,,,,但其振动频率代表的温度却数倍于平均温度。。。所以金刚石热沉片可提高芯片的功率或速度,,,即使平均温度昇高也不损及芯片的性能。。。例如以金刚石消除热点,,,CPU的频率可以大幅提高,,,,超频计算可容许芯片的平均温度提高而维持其可靠度。。。。功率芯片若焊在大而厚的金刚石覆铜散热,,,功率可能加倍。。
金刚石热沉可以化学镀后电镀加厚,,或以活性合金(AMB)纤焊,,,,前者附着力低而且比纸薄。。。。更有甚者,,,电镀铜并不结晶,,,所以其电阻较大,,发热量也高。。。钎焊覆铜附着极牢,,加上钎焊的高温会使铜箔的晶粒快速长大。。。。金刚石热沉片的导电率高于一般铜箔,,,,所以电流通过时的发热量很小,,,,可以降低芯片的平均温度。。。。
金刚石终极功率半导体材料的禁带宽度5.47eV,,,,具有优异的力学、、电学、、、热学、、、声学和光学特性,,是最具有应用前景的宽禁带半导体材料之一。。。尊龙时凯凭借卓越的创新能力和雄厚的技术实力,,,已成为国内宽禁带半导体领域领军企业。。。。